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收集高度發(fā)散光源如激光二極管及平行光束的總輻射功率。
特點:
激光功率測量
幾何光束達40°半角
有效地收集高度發(fā)散源的總功率
可以同時安裝兩個不同的探測器和光譜儀
可以減弱信號避免探測器飽和
可以提供水冷式激光功率積分球
高功率激光功率積分球內(nèi)置高效的排溫系統(tǒng)
積分球內(nèi)含的目標板用以分散能量源
冷卻劑類型可選
應(yīng)用領(lǐng)域:
VCSEL
激光功率測量
激光和激光二極管輸出特性檢測
光學(xué)探測平臺
高功率紅外激光測量
水冷激光功率測量
CO2激光和Nd:YAG激光輸出特性測量
高功率激光二極管陣列
獨立的光學(xué)測量方式,Labsphere的激光功率測量積分球可以理想地收集高度發(fā)散光源如激光二極管及平行光束的總輻射功率,用戶不需要經(jīng)過復(fù)雜地激光定位及校準便可快速簡便地實現(xiàn)精確的、可重復(fù)性的測量,使用衰減濾波片可以消除偏振效應(yīng)。
水冷激光功率測量積分球有3種尺寸規(guī)格,可以測量高功率脈沖及連續(xù)輸出激光器的功率,具有高漫反射率的鍍金涂層Infragold可應(yīng)用在700nm~20μm波長范圍。水冷設(shè)計能承受最大功率為2 kw/cm2(在10.6 μm內(nèi)每秒連續(xù)輸出)同時能最大程度地減少非水冷積分球功率的自激發(fā)。
Labsphere的激光功率測量積分球可以應(yīng)用在紫外-可見-近紅外至中紅外波長范圍內(nèi),兼容Labsphere的標準的探測器組件。
積分球包括兩個探測器開口,用戶可以同時安裝2個探測器測量不同波長的激光源,在積分球的兩個開口處分別安裝一個光點探測器和光譜儀可以測量激光特點。
輸入光束的正對方向安裝有一塊激光目標板,這種設(shè)計旨在接收來自激光的第一次透射,分散進入球內(nèi)的能量,每個水冷激光功率測量積分球的組件都帶有2個0.25英寸的NPT配件方便與冷卻系統(tǒng)連接。
自來水或者冷卻劑如乙二醇可作為冷卻劑,如果采用了循環(huán)裝置,可以咨詢供應(yīng)商選擇冷卻劑類型。水冷激光功率積分球是測試CO2, Nd:YAG及其他激光功率小于2 kW/cm2的紅外激光的理想選擇。冷卻液最高壓力為15psi,安全閥最大壓力為35psi。選擇冷卻環(huán)境時需要考慮冷卻劑輸出溫度及壓力條件。
收集高度發(fā)散光源如激光二極管及平行光束的總輻射功率。
特點:
激光功率測量
幾何光束達40°半角
有效地收集高度發(fā)散源的總功率
可以同時安裝兩個不同的探測器和光譜儀
可以減弱信號避免探測器飽和
可以提供水冷式激光功率積分球
高功率激光功率積分球內(nèi)置高效的排溫系統(tǒng)
積分球內(nèi)含的目標板用以分散能量源
冷卻劑類型可選
應(yīng)用領(lǐng)域:
VCSEL
激光功率測量
激光和激光二極管輸出特性檢測
光學(xué)探測平臺
高功率紅外激光測量
水冷激光功率測量
CO2激光和Nd:YAG激光輸出特性測量
高功率激光二極管陣列
獨立的光學(xué)測量方式,Labsphere的激光功率測量積分球可以理想地收集高度發(fā)散光源如激光二極管及平行光束的總輻射功率,用戶不需要經(jīng)過復(fù)雜地激光定位及校準便可快速簡便地實現(xiàn)精確的、可重復(fù)性的測量,使用衰減濾波片可以消除偏振效應(yīng)。
水冷激光功率測量積分球有3種尺寸規(guī)格,可以測量高功率脈沖及連續(xù)輸出激光器的功率,具有高漫反射率的鍍金涂層Infragold可應(yīng)用在700nm~20μm波長范圍。水冷設(shè)計能承受最大功率為2 kw/cm2(在10.6 μm內(nèi)每秒連續(xù)輸出)同時能最大程度地減少非水冷積分球功率的自激發(fā)。
Labsphere的激光功率測量積分球可以應(yīng)用在紫外-可見-近紅外至中紅外波長范圍內(nèi),兼容Labsphere的標準的探測器組件。
積分球包括兩個探測器開口,用戶可以同時安裝2個探測器測量不同波長的激光源,在積分球的兩個開口處分別安裝一個光點探測器和光譜儀可以測量激光特點。
輸入光束的正對方向安裝有一塊激光目標板,這種設(shè)計旨在接收來自激光的第一次透射,分散進入球內(nèi)的能量,每個水冷激光功率測量積分球的組件都帶有2個0.25英寸的NPT配件方便與冷卻系統(tǒng)連接。
自來水或者冷卻劑如乙二醇可作為冷卻劑,如果采用了循環(huán)裝置,可以咨詢供應(yīng)商選擇冷卻劑類型。水冷激光功率積分球是測試CO2, Nd:YAG及其他激光功率小于2 kW/cm2的紅外激光的理想選擇。冷卻液最高壓力為15psi,安全閥最大壓力為35psi。選擇冷卻環(huán)境時需要考慮冷卻劑輸出溫度及壓力條件。